0
0
1496
Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки : Автореф. дис. на соиск. учен. степ. к.т.н. : Спец. 05.12.21
Автор:
Гайнуллина Наталья Романовна
Год:
1998
Язык:
Русский
Описание:
Гайнуллина Н. Р. Анализ и оптимизация фотолитографических процессов при флуктуации параметров фоторезистной пленки : Автореф. дис. на соиск. учен. степ. к.т.н. : Спец. 05.12.21 / [Казан. гос. техн. ун-т им. А.Н.Туполева]. - Казань, 1998. - 14, [1] с. : ил. ; 20 см. - Библиогр.: с. 13-15 (9 назв.)
Рейтинг по отзывам:
4.5
Материалы:
Рубрики:
–
Примечания:
Библиогр.: с. 13-15 (9 назв.)
Дата создания:
2021-10-13 15:01:27
Соц. сети:
Важно
Пожалуйста, помогите актуализировать информацию
Загрузить фотографию актуальной обложки книги
Дополнить или обновить информацию о книге
